Màquina de recobriment giratori

La sputtering de freqüència intermèdia també és una mena de sputtering de magnetrons.

Hi ha molts tipus de sputtering de magnetró, que es poden dividir en sputtering de magnetró DC, sputtering de magnetró de radiofreqüència i sputtering de magnetró de freqüència intermèdia segons la font d'energia utilitzada. La font d'alimentació que s'utilitza en la polsadora de magnetrons de corrent continu és una font d'alimentació d'alta tensió de corrent continu, normalment 300-1000 V, que es caracteritza per una velocitat de polverització ràpida, un baix cost i un manteniment barat en el període posterior. Tanmateix, només es poden escampar objectius metàl·lics. Si l'objectiu és un aïllant, a mesura que la pulverització avança, l'objectiu acumularà una gran quantitat de càrrega, donant lloc a la impossibilitat de continuar la pulverització. Per tant, la polverització de magnetron DC s'utilitza normalment per a objectius metàl·lics. A causa del seu baix cost i estructura senzilla, s'utilitza àmpliament a la indústria. La freqüència de la font d'alimentació de RF que s'utilitza en la polsada de magnetrons de RF sol ser de 13,56 MHz, la qual cosa pot resoldre el problema que la polverització de magnetrons de DC no pot disparar objectius aïllants. Les característiques de la pulverització de magnetrons de RF són: tant els objectius aïllants com els objectius metàl·lics es poden pulveritzar, i l'adhesió entre la pel·lícula i el substrat és forta. Tanmateix, a causa de l'estructura i el dispositiu complexos, l'elevat preu de la font d'alimentació de RF, l'elevat cost de manteniment, la radiació al cos humà i la necessitat d'una xarxa d'adaptació externa, no és adequat per a la producció industrial. La pulverització de magnetrons de freqüència intermèdia s'utilitza sovint per a la pulverització reactiva per preparar pel·lícules compostes de metall. A més de l'argó, s'afegeix a la cavitat una petita quantitat de gasos reactius com nitrogen, oxigen, etc. per dipositar les molècules d'aquests gasos reactius amb els àtoms del material objectiu. sobre el substrat per formar una pel·lícula composta metàl·lica. Atès que la pulverització de magnetrons DC s'utilitza àmpliament a la indústria, la taula de pulverització de magnetrons inclou un sistema de buit, un sistema de recobriment per pulverització, un gas i un sistema de control.

Aplicació

Paràmetre

La nostra companyia

Etiquetes populars: màquina de recobriment giratori, Xina, proveïdors, fabricants, fàbrica, personalitzat, compra, preu, pressupost