
Màquina de recobriment al buit de color plata
El procés de recobriment PVD es refereix a vaporitzar partícules de material i dipositar-les a la superfície de la peça per mitjans físics. Normalment, es selecciona una determinada font d'evaporació per vaporitzar i dipositar materials en una cambra de buit per formar una pel·lícula fina.
El procés de recobriment PVD es refereix a vaporitzar partícules de material i dipositar-les a la superfície de la peça per mitjans físics. Normalment, es selecciona una determinada font d'evaporació per vaporitzar i dipositar materials en una cambra de buit per formar una pel·lícula fina. A continuació es fa una breu discussió i anàlisi de les característiques dels tres processos típics de recobriment PVD més importants i la seva adaptabilitat a peces de làmpada.
(1) Tecnologia de recobriment per evaporació tèrmica
En estat de buit, el material obté prou calor per vaporitzar-se i evaporar-se per formar una pel·lícula fina. Adequat principalment per a alguns materials metàl·lics d'alta pressió de vapor o materials d'òxid fundibles. Es caracteritza per una velocitat de deposició ràpida, però l'energia cinètica de les partícules és baixa ({{0}},1~0,5eV). Hi ha moltes maneres d'aconseguir l'evaporació tèrmica, inclosa l'evaporació de resistència, l'evaporació de canó d'electrons, l'evaporació de càtode buit, l'evaporació tèrmica d'inducció d'alta freqüència i altres processos. Entre ells, el principi del procés d'evaporació de la resistència és madur, l'estructura és flexible i es pot utilitzar en un gran buit
És adequat per a la producció de recobriments industrialitzats de làmpades i fanals. Tanmateix, és molt difícil controlar la consistència de la velocitat d'evaporació, el gruix de la pel·lícula, l'evaporació reactiva i els processos de recobriment múltiples. És necessari tenir una experiència rica en processos o estratègies de control complexes. L'evaporació de canó d'electrons i l'evaporació làser s'utilitzen principalment per al recobriment d'evaporació d'alguns metalls i compostos d'alt punt de fusió. En general, són adequats per a equips miniaturitzats i la quantitat d'evaporació és petita. Tanmateix, la calor radiant generada pel sistema d'alta potència és massa alta, cosa que és fàcil de danyar el substrat de plàstic del llum del cotxe. danys, no és adequat per a les necessitats de producció massiva de llums d'automòbils, i l'ús és complicat i car; Altres tecnologies clau i mètodes de control dels processos de recobriment compost, com ara càtodes buits i làmpades d'automòbil d'inducció, s'investiga sobre l'evaporació i altres mètodes i estructures de recobriment per evaporació tèrmica. Comparació de la manipulació del producte i la implementació del procés Complicat i no apte per al recobriment industrial d'automòbils a base de plàstic. productes d'il·luminació.
(2) Tecnologia de recobriment per polverització de magnetrons
Sota l'acció del camp magnètic i el camp elèctric, els ions de gas ionitzat bombardegen la superfície del material objectiu, de manera que s'escampa i es diposita sobre la peça de treball per formar una pel·lícula fina. La tecnologia del procés de recobriment de magnetrons pot preparar gairebé tot tipus de materials, inclosos conductors metàl·lics, semiconductors, compostos, ceràmica, etc. En comparació amb el procés d'evaporació, les seves característiques són que el nivell d'energia del feix de partícules és relativament alt (1~100eV). ), i la densitat i l'adhesió de la capa de pel·lícula són més altes. Hi ha moltes maneres de realitzar el procés de polverització del magnetró i l'estructura de la font objectiu. Segons la font d'alimentació utilitzada, es pot dividir en sputtering de CC, sputtering de freqüència intermèdia, sputtering de polsos, sputtering de radiofreqüència, etc. i diverses combinacions d'aquests. L'inconvenient del recobriment de polverització de magnetrons és que la velocitat de deposició de la pel·lícula és molt inferior a la de l'evaporació tèrmica. Atès que el procés de treball requereix ajuda de gas com l'argó, la pressió de treball sol ser un ordre de magnitud superior a la del procés de recobriment per evaporació, que no és propici per a la preparació de metall pur. A més, l'estructura de l'objectiu del magnetró és relativament complexa i l'estabilitat del procés es veu afectada per múltiples factors, com ara la pressió del gas de treball auxiliar i la potència d'alimentació. Quan s'utilitza per al recobriment de làmpades d'automòbils, els problemes clau que s'han de resoldre són com aconseguir efectes de deposició ràpids i estables, així com el control de la uniformitat i consistència de la pel·lícula en contenidors grans.
(3) Tecnologia de recobriment iònic Sota l'estat de buit, mitjançant la descàrrega d'arc de gas i l'efecte de bombardeig iònic, el material de recobriment s'ionitza i es diposita per formar una pel·lícula fina. El procés de recobriment d'ions pot preparar metalls, aliatges i altres materials, i té les característiques d'alta taxa d'ionització, alta taxa de deposició i alta energia (1 ~ 100eV). Hi ha molts tipus d'implementacions de processos i estructures font de destinació. Entre ells, la tecnologia de recobriment d'ions d'arc és la més utilitzada industrialment. Durant el funcionament, els electrons formen una descàrrega d'arc de buit de càtode fred per emissió de camp, de manera que els materials de recobriment es dipositen mitjançant un feix d'ions. Tanmateix, quan es diposita el recobriment, la temperatura de la peça de treball i la font objectiu és molt alta, i algunes peces d'alta temperatura s'han de refredar i protegir eficaçment. Aquest procés s'utilitza principalment per al recobriment d'eines i el recobriment de modificació de la superfície del material, i té alts requisits per a la resistència a alta temperatura i la resistència a la deformació del substrat. Per a peces de treball de làmpades de cotxes, d'una banda, el seu efecte d'alta temperatura és fàcil de superar la gamma resistent a la calor de peces modelades per injecció, i és fàcil provocar cremades i deformacions a la superfície. El fenomen de les esquitxades de gotes i les partícules grans és fàcil d'afectar a la capa i el substrat de la pel·lícula. La puresa de la pel·lícula és difícil d'aconseguir un efecte mirall i la reflectivitat de la pel·lícula és baixa, de manera que no és adequada per al recobriment de làmpades d'automòbils.


Aplicació


Paràmetre

La nostra companyia




Etiquetes populars: màquina de recobriment al buit de color plata, Xina, proveïdors, fabricants, fàbrica, personalitzat, compra, preu, pressupost
Màquina de recobriment de plàstic PVD PP
Màquina de metallització de capa de buit d'alumini d...
Màquina de recobriment d'alt buit per evaporació de ...
Màquina de recobriment de metallització de plàstic a...
Màquina de línia de pintura amb esprai UV de taps co...
Màquina de recobriment d'alumini per evaporació al buit
Enviar la consulta


