Màquina de recobriment de plàstic PVD PP

El recobriment de polverització utilitza el material de recobriment com a càtode i el substrat com a ànode. La interacció entre el camp magnètic i el camp elèctric s'utilitza per fer que els electrons funcionin en forma d'espiral a prop de la superfície de l'objectiu, augmentant així la probabilitat de electrons colpejant l'argó a generacions i millorant eficaçment la qualitat del gas. velocitat d'ionització per augmentar la velocitat de pulverització. En el procés de volar cap al substrat, els electrons xoquen amb àtoms de gas inert (generalment Ar), ionitzant-los per generar ions positius, i els ions positius amb alta energia són accelerats pel camp elèctric per colpejar la superfície de l'objectiu, donant com a resultat en l'absorció atòmica a la superfície de l'objectiu. L'energia cinètica dels positius es trenca de la xarxa original, i els àtoms neutres objectiu s'escapa de la superfície de l'objectiu i volen cap al substrat i es dipositen al substrat per formar una pel·lícula fina. Obtenir pel·lícules de diferents materials i gruixos.

Aplicació

Paràmetre

La nostra companyia

Etiquetes populars: